半導體工業用炭石墨制品的使用與選擇

半導體工業是新興的科學技術，近年來受到了人們極大地重視，被認為是20世紀60年代與原子能同等重要的科學新成就。而半導體技術的發展與石墨材料在半導體工業中的應用是分不開的。在半導體工業中主要采用高純石墨材料制造單晶爐石墨加熱系統、電子器件燒結模具、絕緣子燒結模具、可控硅管燒結模具等。

單晶爐用炭石墨制品

石墨加熱器。對單晶爐加熱系統的要求是能夠保證供給足夠的熱量，使硅、儲等迅速熔化，同時應能保證精細而方便地調節溫度。故加熱通常采用電阻和高頻加熱兩種常用的電阻加熱主要包括一個變壓器和一個石墨加熱器。常見的石墨加熱器形狀有杯形、直筒形、螺旋形，如圖2-1所示。加熱器的尺寸、形狀、開槽高度主要考慮熔料多少和有利于拉晶，其電阻值要和變壓器遠配。加熱器內徑和高度的選擇，原則是使熔硅時，石墨托上部位于加熱器高溫區，拉制晶體時，石墨托底部位于加熱器高溫區。加熱器高溫區長短和加熱器開槽長短有關。加熱器內徑和高度決定后，根據變壓器輸出功率來決定加熱器片厚，如變壓器最大輸出功率15AW,最大輸出電壓48”，則要求加熱器電阻值最好為0.152。再根據R一的4求出加熱器片厚t，b為寬度，L為長度。單晶爐炭石墨制品加熱系統。

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